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課程名稱 |
繞射原理
THEORY OF DIFFRACTION |
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開課學期 |
98-2 |
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授課對象 |
工學院 材料科學與工程學系 |
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授課教師 |
薛人愷 |
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課號 |
MSE5030 |
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課程識別碼 |
527 U3140 |
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班次 |
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學分 |
3 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
必帶 |
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上課時間 |
星期五5,6,7(12:20~15:10) |
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上課地點 |
工綜215 |
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備註 |
限本系所學生(含輔系、雙修生)
總人數上限：60人 |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
本課程尚未建立核心能力關連 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
課程教學目標：
本課程以介紹X光繞射之基本原理與應用為主，課程中包含：X光性質簡介、晶體結構簡介、繞射原理、結構鑑定等。此外，課程中亦包含材料分析中常見的掃描式電子顯微鏡、WDS及EDS成分分析及穿透式電子顯微鏡簡介。希望能藉由本課程能夠涵蓋材料工程師所應具備此方面的基本知識。
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課程目標 |
第一章 X光性質簡介
第二章 晶體結構簡介
第三章 繞射原理(I)：繞射峰位置計算
第四章 繞射原理(II)：繞射峰強度計算
第五章 繞射原理(III)：真實試片
第六章 繞射儀量測簡介
第七章 粉末繞射
第八章 Laue繞射
第九章 相鑑定
第十章 結構鑑定
第十一章 掃描式電子顯微鏡簡介
第十二章 WDS及EDS成分分析
第十三章 穿透式電子顯微鏡簡介
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課程要求 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
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參考書目 |
教科書：
Elements of X-Ray Diffraction, B.D. Cullity and S.R. Stock, 3rd ed., Prentice-Hall Inc., 2001.
主要參考書:
1. Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis, R.E. Lee, Englewood Cliffs, N.J., PTR Prentice Hall, 1993.
2. The Basics of Crystallography and Diffraction, C. Hammond, 2nd ed., Oxford Science Publications, 2001.
3. Crystallography and Crystal Defects, revised edition, A. Kelly, G.W. Groves and P. Kidd, John Wiley & Sons, Ltd., 2000.
4. X光繞設原理與材料結構分析，許樹恩、吳泰伯，中國材料科學學會，中華民國八十五年九月。
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評量方式
(僅供參考) |
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